Добавить работы Отмеченные0
Работа успешно отмечена.

Отмеченные работы

Просмотренные0

Просмотренные работы

Корзина0
Работа успешно добавлена в корзину.

Корзина

Регистрация

интернет библиотека
Atlants.lv библиотека
0,99 € В корзину
Добавить в список желаний
Хочешь дешевле?
Идентификатор:888760
 
Автор:
Оценка:
Опубликованно: 03.01.2005.
Язык: Латышский
Уровень: Средняя школа
Литературный список: 3 единиц
Ссылки: Не использованы
Фрагмент работы

Pusvadītāju ietaišu un integrālo mikroshēmu izgatavošanas tehnoloģiju parasti sadala 3 daļās:

1) Vielu slāņu vai plēvju uzlikšana uz pusvadītāju plāksnēm;
2) Vielu noņemšana no pusvadītāju plāksnēm;
3) Piemaisījumu atomu/jonu pārkārtošana starp ārējo vidi un pusvadītāju plākšņu virsmu vai tilpumu.
Pirmajos divos procesos mainās tikai plākšņu ģeometrija, bet pēdējā – sastāvs, iekšējo apgabalu īpašības un struktūra. Parasti pielieto silicija kristāla plāksnes ar p-tipa vadītspēju. Tehnoloģiskā procesā tiek apstrādāta tikai viena silicija plāksnes puse, tāpēc tehnoloģija saucās planārā tehnoloģija.

Коментарий автора
Загрузить больше похожих работ

Atlants

Выбери способ авторизации

Э-почта + пароль

Э-почта + пароль

Неправильный адрес э-почты или пароль!
Войти

Забыл пароль?

Draugiem.pase
Facebook

Не зарегистрировался?

Зарегистрируйся и получи бесплатно!

Для того, чтобы получить бесплатные материалы с сайта Atlants.lv, необходимо зарегистрироваться. Это просто и займет всего несколько секунд.

Если ты уже зарегистрировался, то просто и сможешь скачивать бесплатные материалы.

Отменить Регистрация